日本水质测试包的使用方法：①拔出管子头部的线。②使孔朝上，用手牢牢捏住管子下半部，排出上部空气。③保持图2的捏住管子的状态，将洞插入杯，松开手指，吸入被测水（检测的水是管的一半）④轻轻震摇5－6次，在的时间吸入的被测水的变色与标准色卡进行比较，查找相同或相似颜色，该处所示的数值即为所测水质的浓度值。日本水质测试包的应用范围：工程管理—原物料品管，残留量检查，一般用水／循环用水／锅炉用水等管理。排水管理—zui终放流水确认，污水处理设施运转管理，设备验收，异常处理，异常早期发现...

酸性蚀刻自动分析，也叫氯化铜酸性蚀刻系统，通常使用于单面板蚀刻、多层板的内层蚀刻或外层蚀刻上。因这些制程都用干膜或液态感光油墨作为蚀刻阻剂，而这几种感光材料相对而言均为耐酸不耐碱性的特性，故选用酸性蚀刻。酸性蚀刻自动分析系统类型简介1.三氯化铁蚀刻液﹕其再生困难，污染严重，废液难处理等而正在被淘汰（Fe3+50%）。2.硫酸—双氧水蚀刻液﹕由于蚀刻速度较低，其一般用于图形电镀、内外层压膜前处理（适于薄铜）。3.氯酸盐蚀刻液﹕具有蚀刻速度稳定，溶铜量大，蚀刻液易再生和回收，能减...

本产品由深圳市瑞思远科技有限公司代理进口厂家，专业用于电镀镍/铜或化学镍/铜分析监测系统广泛用于印制电路板成形处理及电镀行业电镀镍/铜镀膜工艺设计的分析监测。本产品可以在要求下马上测定出镍或铜的浓度值。无需人工滴定化学方法测试，省去了因人为肉眼观测颜色有误而带来的分析误差。是化学厂商，电镀工厂，科研机构，废水处理和学校的*。欢迎各大厂商仔细阅读下文，咨询问价。标价不是zui终成交价格。测定原理采用吸光光度法测定原理，光线透过光学受光侧的回馈吸收比例，再经信号放大器计算转换为镍...

覆铜板在化学沉铜时要进行前处理，微蚀作为前处理的重要环节有着积极的作用。微蚀，又可称为表面粗化，它一方面能够去除铜箔表面的氧化层，一方面能利用微蚀刻溶液从铜基体表面上蚀刻掉1um~2um的铜，有助于提高铜箔表面和化学铜之间的结合力。然而粗化铜箔的深度要适当，粗化过量会导致铜和药水的浪费，严重时甚至会造成基体裸露，粗化不足则会降低基铜表面与化学镀铜的结合力。为了得到良好的粗化效果就需要确定合适的粗化速率。●因此本公司主要对影响沉铜效果的微蚀工序进行了研究，研发了测试铜含量的自动...

化学镀镍技术（无电解镍技术）是当今世界主要工业国家大力提倡和的一种新型金属表面处理技术，被广泛应用于各类五金零件、机械配件、电子连接零件、模具及航天通讯零件等，均可上镀于钢、铁、铜、铝及合金等金属，化学镀镍与传统电镀对比有着诸多的优点：1.化学镀镍整个工艺流程有很好的环保性，它能确保整个生产环节不使用不产生对人体和环境有害的及欧盟ROHS指令规定的铅Pb，汞Hg，镉Cd,六价格铬Cr，多PBB，多醚PBOE六种有害物质。2.镀层厚度非常均匀，化学镀液的分散力接近100%，无明...

触摸屏（TP）技术分为电阻式、表面电容式、投射电容式、表面声波式和红外线式，其中，电容式触摸屏广泛应用于移动设备和消费电子产品。触摸屏技术方便了人们对计算机的操作使用，是一种极有发展前途的交互式输入技术，因而受到各国的普遍重视，并投入大量的人力、物力对其进行研发，新型触摸屏不断涌现。掺锡氧化铟（IndiumTinOxide,简称ITO）薄膜是一种半导体材料，具有优异的光电特性和导电性，在触摸屏技术方面得到了广泛的应用。在电容式触摸屏玻璃基板表面进行ITO溅镀后，使其成为双面I...

氨基磺酸镍（Nickelaminosulfonate），别名磺酰胺酸镍，化学式Ni(NH2SO3)2，一般为四水合物的形式。性质:绿色易潮解结晶，易溶于水。加热至高温时失去结晶水并分解。制备:氨基磺酸与氢氧化镍进行反应生成氨基磺酸镍，再经浓缩、结晶、离心分离，制得成品。用途:氨基磺酸镍主要用于精密电镀，它的优点是镀层的内应力低，沉积速度快。氨基磺酸镍配方：氨基磺酸镍300-450g/l氯化镍：2-15g/l硼酸：30-45g/lPH值：3.5-4.5温度:40-60度阴极电流...

一、离子交换柱操作及分析试验方法的原因排除当供水紧张而备用设备较少时，运行人员因设备发生故障易产生紧张急躁的情绪。急躁情绪无助于问题的判断和解决，我厂曾发生过一件事例：即多台运行阳离子交换器在一段时间内周期制水量大幅度下降，出水水质时好时坏，检修人员打开设备检查后，未能发现其内部装置存在缺陷，化验人员通过生水和树脂的分析，确定了水质和树脂性能的情况变化不大，因原因不明，故障判定的条件不充分，阳离子交换器的故障不能及时排除，生产一度陷入被动的局面。后来技术人员发现，运行分析人员...

酸性蚀刻自动分析工艺是用离子膜将电解槽的阳极区和阴极区分隔成两个独立的区域。阳极区将降铜后的废蚀刻液中的一价铜离子通过电化学反应生成二价铜离子，使废蚀刻液获得再生;阴极区通过离子隔膜有选择性的使溶液中的离子定向迁移，让溶液中的铜离子得到电子还原成零价铜。1、酸性蚀刻自动分析采用"离子膜电解铜"工艺：该工艺是用离子膜将电解槽的阳极区和阴极区分隔成两个独立的区域。阳极区为废蚀刻液再生区，它将降铜后的废蚀刻液中的一价铜离子通过电化学反应生成二价铜离子，使废蚀刻液获得再生;阴极区为铜...

（1）化学镀镍自动分析沉积速度低a镀液pH值过低：测pH值调整，并控制pH在下限值。虽然pH值较高能提高沉速，但会影响镀液稳定性。b镀液温度过低：要求温度达到规范时下槽进行施镀。新开缸*批工件下槽时，温度应达到上限，反应开始后，正常施镀时，温度在下限为好。c溶液主成分浓度低：分析调整，如还原剂不足时，添加还原补充液；镍离子浓度偏低时，添加镍盐补充液。对于上规模的化学镀镍，设自动分析、补给装置是必要的，可以延长连续工作时间（由30h延至56h）和镍循环周期（由6周延至11周）。...