如何正确使用韩国膜厚仪

韩国膜厚仪解释当薄膜厚度和光学常数在测量系统范围内时，测量系统能又快又轻松的测量。在用来测量薄膜厚度时，有几种常见的对膜厚仪的误解。比如：
1.韩国膜厚仪只能测量薄膜厚度，且需要预先知道光学常数(折射率和消光系数)；
2.和椭偏仪相比它的精度较低；
3.只有一到两个厚度可同时测量。
这些误解反映了韩国膜厚仪这种技术没有被充分利用。其使用方法和数据分析有待进一步的深入。
椭偏仪是间接的测量方法，需要建立一个模型，通过调整物理参数(厚度和光学常数)，使得模型与测量得到的反射率曲线达到*拟合度，以此来反推计算薄膜厚度和光学常数。
但是韩国膜厚仪在下列情况下具有明显的优势：
1.韩国膜厚仪度要求较高的厚度测量(除很薄的薄膜外)精度<0.01纳米；
2.测量较厚的薄膜(>10微米)。精度达到500微米；
3.更高的测量速度<1毫秒；
4.测量表面粗糙度。
这些种技术都可以测量复杂的多层薄膜，计算其厚度和材料的n、k值。
通常人们都使用膜厚仪认为它适合简单的厚度测量：一至二层薄膜。通常，测量多晶硅和氮化硅是两个主要应用，导致了椭偏仪和膜厚仪在半导体工业领域里有着广泛的应用。以传统的使用方法，显然不适合这些应用。因此，说明膜厚仪的应用是非常有意义的。事实上如果运用得当，测量它们非常成功。