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  • WNI410镀镍自动添加

    镀镍自动添加广泛用于印制电路板成形处理及电镀行业化学镍镀膜工艺设计的分析监测。深圳市瑞思远科技有限公司生产的RSY-ZM型化学镍自动加药系统。本分析装置可长期、连续、自动运行,核心仪表采用由分光光度检测原理的进口镍离子监测仪,以对流程工艺中的镍离子浓度进行实时分析,并通过控制装置对槽液自动进行镍的补加,完成工艺设计过程中对镍添加之目的。

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    2026-04-01

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  • WNI410化学镍镍离子监测仪

    化学镍镍离子监测仪广泛用于印制电路板成形处理及电镀行业化学镍镀膜工艺设计的分析监测。深圳市瑞思远科技有限公司生产的RSY-ZM型化学镍自动加药系统。本分析装置可长期、连续、自动运行,核心仪表采用由分光光度检测原理的进口镍离子监测仪,以对流程工艺中的镍离子浓度进行实时分析,并通过控制装置对槽液自动进行镍的补加,完成工艺设计过程中对镍添加之目的。

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  • WEC禾威WEC 导电率非直接接触式自动添加控制器

    禾威WEC 导电率非直接接触式自动添加控制器非直接接触式的塑料外壳感应器测量溶液中的导电率,从而控制添加泵或及警报器。一台可控制单一个或两个溶液缸。控制器可适应于大多数非常恶劣化学品控制的应用,包括有:油性清洁剂缸、铬酸盐、清洗缸、浓烟洗涤器及其它浓缩化学品高至1000mS/cm的导电率。

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  • WNI410WNI410 镀镍/蚀镍化学镍自动添加控制器

    WNI系列控制器是应用光电原理在线分析电镀缸内镀镍溶液浓度的变化,能以克每升(g/L)或液盎司每加仑(oz/gal)来显示。使用此控制器在镀镍缸上能减少人工滴定检验的需要并增加生产能力,当到达Z大“金属消耗“时更能自动地提示使用者从而减少资源浪费及增加电镀缸的寿命。只需设定好设定点就能得到准确的结果省去重复调校及校准的不便。

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  • WCU410WCU410镀铜/蚀铜化学铜自动添加控制器

    WCU410镀铜/蚀铜化学铜自动添加控制器价钱经济,内置微处理器以菜单形式控制,并可透过菜单来切换镀铜或蚀铜模式免除更换控制器。可同时控制多达4个继电器,每个继电器的输出端都可统计化学泵总流量或运作时间。用户可透过背光源LCD显示屏来查看以克每升或液盎司每加仑来显示的铜浓度与设定点的差距。

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  • WNI410化学镍添加分析装置

    化学镍分析监测系统广泛用于印制电路板成形处理及电镀行业化学镍镀膜工艺设计的分析监测。深圳市瑞思远科技有限公司生产的RSY-ZM型化学镍自动加药系统。本分析装置可长期、连续、自动运行,核心仪表采用由分光光度检测原理的进口镍离子监测仪,以对流程工艺中的镍离子浓度进行实时分析,并通过控制装置对槽液自动进行镍的补加,完成工艺设计过程中对镍添加之目的。

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    2026-04-01

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  • WEC禾威WEC 导电率自动添加控制器

    能透过非直接接触式的塑料外壳感应器测量溶液中的导电率,从而控制添加泵或及警报器。

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  • WPH410禾威(WALCHEM) WPH410系列(pH/ORP自动添加控制器)

    WPH系列pH/ORP在线控制器能有效地增加生产能力。内置微处理器以简单易用的菜单形式操作。WPH系列控制器能精确及可靠地测量出pH或mV值。多功能的输出端组态允许用户在同一控制器内编制多达4个输出端的不同程序。

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    2026-04-01

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